Onsemi představila architekturu Embedded Power Platform pro vyšší hustotu výkonu

Onsemi představila architekturu Embedded Power Platform pro vyšší hustotu výkonu

Americký výrobce čipů Onsemi představil platformu Embedded Power Platform (EPP), novou architekturu čipů, která zvyšuje hustotu výkonu v datových centrech pro umělou inteligenci i v dalších energeticky náročných aplikacích. Platforma využívá křemíkovou desku (wafer) jako integrované pouzdro a spojuje elektrický, mechanický a tepelný návrh tak, aby zákazníci dosáhli vyšší hustoty výkonu a zlepšili výkon AI systémů.

Dinesh Ramanathan, viceprezident pro firemní strategii společnosti Onsemi, v rozhovoru pro DCD před oznámením vysvětlil, že dnešní racky mají přibližně 60 kW, avšak v příštích dvou letech se očekává nárůst na 200 kW a do konce dekády na 1 MW. „Prostor v racku se nemění, ale množství energie, které rack nakonec spotřebuje, dramaticky roste,“ řekl Ramanathan. „Pokud to máme zvládnout a zajistit, aby rack v datovém centru dokázal spotřebovat 1 MW a poskytnout nám požadované schopnosti AI, musíme napříč celým rackem výrazně zvýšit hustotu výkonu. Pokud ji nezvýšíme, nikdy se k 1 MW nedostaneme.“

Wafer jako pouzdro čipu

Ramanathan vysvětlil, že EPP na základní úrovni funguje tak, že se do křemíkové desky vytvoří dutina a do ní se vloží čip (die). Použitím waferu jako pouzdra lze plynule propojit křemík, karbid křemíku a vertikální nitrid gallia v rámci vysoce integrované architektury na úrovni waferu. Platforma také umožňuje sloučit několik prvků — včetně tranzistorů FET, budičů a řadičů — do jednoho pouzdra optimalizovaného pro elektrický, tepelný i mechanický výkon. Podle firmy se u raného návrhu polovodičového jističe založeného na EPP ukázalo, že řešení je přibližně o 50 procent menší a o 20 procent chladnější než dosavadní návrhy.

EPP staví na standardní výrobě křemíkových desek o průměru 12 palců, kterou Onsemi ovládá, včetně vyzrálých návrhových nástrojů, výroby na úrovni waferu, pokročilých simulačních schopností a integrace napájecích systémů. „Snížením režie pouzdření a využitím celé plochy EPP k odvodu tepla může EPP podpořit kompaktnější napájecí systémy, zlepšit tepelný management a umožnit vyšší hustotu výkonu v AI infrastruktuře,“ uvedla firma.

Onsemi již na nasazení EPP navázal partnerství se společností Subaru, která získá včasný přístup k inženýrským vzorkům, simulačním modelům a technickým znalostem. Ramanathan uvedl, že výrobce čipů spolupracuje také s jednou průmyslovou firmou a jednou společností provozující AI datová centra, jejichž jména však zatím nemohl uvést. „Ukázali jsme těmto zákazníkům, co technologie dokáže, a pracujeme na tom, abychom tento produkt uvedli do tržního provozu v roce 2027, takže letos zákazníkům rozesíláme vzorky,“ řekl Ramanathan. „Očekáváme, že v prvním čtvrtletí bude technologie kvalifikována a poté všeobecně dostupná pro kterékoli naše zákazníky.“

Zdroj: datacenterdynamics.com

Související články

Leave a Comment